紫外線(xiàn)涉及領(lǐng)域

電子領(lǐng)域

紫外線(xiàn)可用于光刻設(shè)備，用于生產(chǎn)電子芯片，如EUV光刻機(jī)采用的是EUV超高頻紫外線(xiàn)(極紫外線(xiàn))，由于其波長(zhǎng)極短，分辨率高，可以用于光刻機(jī)，生產(chǎn)極短制程的CPU和各種電子芯片，紫外光刻是電子工業(yè)的重要生產(chǎn)技術(shù)之一。

工業(yè)領(lǐng)域

在表面清洗處理中的應(yīng)用。

由于大功率超高功率低氣壓UV放電管開(kāi)發(fā)的進(jìn)展，以及隨著微電子等產(chǎn)品的超微細(xì)化，在微電子、超精密器件等產(chǎn)品的制造過(guò)程中，由高頻短波紫外線(xiàn)及其產(chǎn)生的臭氧對(duì)其產(chǎn)品的表面進(jìn)行超精密清洗或改善其表面的接著性、附著性的干式光表面處理技術(shù)的實(shí)用化進(jìn)展得很快。需要提高成品率的半導(dǎo)體器件、液晶表示元件、光學(xué)制品等制造中，紫外線(xiàn)UV和O3臭氧并用的干式光表面處理技術(shù)已成不可缺少的技術(shù)手段。作為氟利昂的替代技術(shù)，光表面清洗技術(shù)將逐漸取代濕式的傳統(tǒng)技術(shù)。

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